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新2网址最新登录:2025年后电晶体进入埃米时代,ASML下一代EUV曝光机提前量产、单价突破3亿美元

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在上月的ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布的蓝图显示,2025年后电晶体进入埃米时代(Å,angstrom,1埃 = 0.1奈米),其中2025对应A14(14Å=1.4奈米),2027年为A10(10Å=1nm)、2029年为A7(7Å=0.7奈米)。



当时imec就表示,除了新电晶体结构、2D材料,还有很关键的一环就是High NA(高数值孔径)EUV曝光机。其透露,0.55NA的下代EUV曝光机一号试做机会在2023年由ASML提供给imec,2026年量产。



不过,本月与媒体交流时,ASML似乎暗示这个进度要提前。第一台高NA EUV曝光机2023年开放早期访问,2024年到2025年开放给客户进行研发并从2025年开始量产。

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据悉,相较于当前0.33NA的EUV曝光机,0.55NA有了革命性进步,它能允许蚀刻更高解析度的图案。



分析师Alan Priestley称,0.55NA曝光机一台的价格会高达3亿美元,是当前0.33NA的两倍。



早在今年7月,Intel就表态致力于成为高NA曝光机的首个客户,Intel行销副总裁Maurits Tichelman重申了这一说法,并将高NA EUV曝光机视为一次重大技术突破。



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